大阪大学大学院工学研究科
附属精密工学研究センター
ナノ製造科学領域 山村研究室
山村研究室YAMAMURA LAB.
MEMBER
メンバー紹介
教授 山村 和也
恩師の生きざまである『常識への挑戦』をモットーに、新しい物理化学加工プロセスの開発を“夢中”になって取組んでいます。自他ともに認めるせっかちな性格で、はまったら“極端”と言われます。
Kazuya YAMAMURA
教授 山村 和也
恩師の生きざまである『常識への挑戦』をモットーに、新しい物理化学加工プロセスの開発を“夢中”になって取組んでいます。自他ともに認めるせっかちな性格で、はまったら“極端”と言われます。
数値制御プラズマCVM装置
局所的に発生させた大気圧プラズマを用いたエッチング装置です。ワークテーブルの数値制御走査によりナノメータ精度の形状加工ができます。
プラズマ援用研磨装置
プラズマの照射による表面改質と軟質砥粒による改質層の除去により、3インチサイズのSiC, GaN, サファイアウエハを高能率かつダメージフリーにドライ研磨できます。
表面処理一体型・電気特性測定装置
超高真空雰囲気下で、半導体表面に吸着するガス分子の量を分子層レベルで制御することができます。また、その上にデバイス構造を構築することにより、吸着したガス分子が電子デバイスに与える影響を明らかにします。
山村研究室YAMAMURA LAB.
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