2021.09.21
9月21日～27日にオンライン開催された2021年度精密工学会秋季大会学術講演会にて、当研究室の11人が研究発表を行いました。
当研究室より下記の研究発表を行いました。
http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/
楊旭（特任助教）：
電気化学機械研磨によるSiCの高能率スラリーレス加工法の開発（第8報）
－多孔質材料を用いた4H-SiC(0001)表面の局部電気化学機械研磨－
孫栄硯（D3、JSPS DC1）：
プラズマ援用研磨法の開発（第22報）
－フッ素系ガスを用いたプラズマ援用研磨における砥石成分の付着抑制－
李君寰（D1）：
単層ナノグラフェンに形成される新たな電子密度分布に関する研究
－長方形状格子のSTM観察と第一原理計算による考察－
小笠原歩見（M2）：
燃料電池用グラフェンシートの酸素還元活性評価
－選択エッチングを利用した新触媒評価法の検討－
馬智達（M2）：
銀イオンの選択吸着を援用したSi表面上への連続ナノ溝構造の形成と評価
山本有悟（M2）：
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第11報）
－精密加工のためのマンドレル高精度形状測定－
陶通（M1）：
プラズマ援用研磨法の開発（第23報）
－AlN基板の研磨における砥粒材質と研磨特性の相関－
谷海洋（M1）：
SiCウエハのスラリーレス電気化学機械研磨法における砥石/ウエハ相対運動の改善
梶本稜有（M1）：
プラズマ酸化を援用した低欠陥グラフェンの転写プロセスに関する研究
－Niスパッタ膜形成時の基板加熱が転写特性に与える影響の解明－
野田晃平（M1）：
DNAナノポアシーケンシングデバイスのための3次元形状へのMoS2自立膜のCVD成膜
須場健太（M1）：
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第12報）
－エッチレートにおける投入電力とギャップ長の相関－
みなさま発表おつかれさまでした！
http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/
楊旭（特任助教）：
電気化学機械研磨によるSiCの高能率スラリーレス加工法の開発（第8報）
－多孔質材料を用いた4H-SiC(0001)表面の局部電気化学機械研磨－
孫栄硯（D3、JSPS DC1）：
プラズマ援用研磨法の開発（第22報）
－フッ素系ガスを用いたプラズマ援用研磨における砥石成分の付着抑制－
李君寰（D1）：
単層ナノグラフェンに形成される新たな電子密度分布に関する研究
－長方形状格子のSTM観察と第一原理計算による考察－
小笠原歩見（M2）：
燃料電池用グラフェンシートの酸素還元活性評価
－選択エッチングを利用した新触媒評価法の検討－
馬智達（M2）：
銀イオンの選択吸着を援用したSi表面上への連続ナノ溝構造の形成と評価
山本有悟（M2）：
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第11報）
－精密加工のためのマンドレル高精度形状測定－
陶通（M1）：
プラズマ援用研磨法の開発（第23報）
－AlN基板の研磨における砥粒材質と研磨特性の相関－
谷海洋（M1）：
SiCウエハのスラリーレス電気化学機械研磨法における砥石/ウエハ相対運動の改善
梶本稜有（M1）：
プラズマ酸化を援用した低欠陥グラフェンの転写プロセスに関する研究
－Niスパッタ膜形成時の基板加熱が転写特性に与える影響の解明－
野田晃平（M1）：
DNAナノポアシーケンシングデバイスのための3次元形状へのMoS2自立膜のCVD成膜
須場健太（M1）：
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第12報）
－エッチレートにおける投入電力とギャップ長の相関－
みなさま発表おつかれさまでした！
