2021.12.02
11月30日～12月3日＠Hilton Niseko Village, Hokkaidoで開催されたISAAT2021にて、当研究室の4人が研究発表を行いました。
ISAAT2021は対面＠Hilton Niseko Village, Hokkaidoとオンラインのハイブリッド形式で開催されました。
当研究室より下記の研究発表を行いました。
http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/
楊旭（特任助教）：
みなさん発表お疲れ様でした！
当研究室より下記の研究発表を行いました。
http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/
楊旭（特任助教）：
Improvement of material removal rate of slurryless electrochemical mechanical polishing by introducing shallow strained layer on 4H-SiC (0001) surface
孫栄硯（D3、JSPS DC1）：
孫栄硯（D3、JSPS DC1）：
Consideration on suppression of grinding stone components adhesion in dry polishing with the aid of surface modification by fluorine-based plasma
陶通（M2）：
陶通（M2）：
Study on the oxidation characteristics of reaction-sintered silicon carbide using vacuum Ar-based O2 plasma for plasma-assisted polishing
谷海洋（M2）：
谷海洋（M2）：
Optimization of polishing parameters to make the polishing amount distribution uniform in slurryless electrochemical mechanical polishing of 4 inch 4H-SiC wafers
みなさん発表お疲れ様でした！
