2022.03.17
3月15日～17日にオンライン開催された2022年度精密工学会春季大会学術講演会にて、当研究室の5人が研究発表を行いました。
当研究室より下記の研究発表を行いました。
http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/
孫栄硯（D3、JSPS DC1）：
プラズマ援用研磨法の開発（第24報）
－CF4プラズマ照射前後におけるAlN基板とダイヤモンド砥粒との吸着力の変化－
陶通（M2）：
プラズマ援用研磨法の開発（第25報）
－RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価－
谷海洋（M2）：
難加工材料に対するスラリーレス超音波援用電気化学機械研磨法の開発（第3報）
－4インチSiCウエハ研磨の検討－
須場健太（M1）：
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第13報）
－PCVM加工後の表面粗さ悪化要因の究明とその対策－
杉本健太郎（M1）：
プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー加工（第3報）
－研磨レートおよび表面性状の研磨圧力依存性に関する検討－
みなさま発表お疲れ様でした！
http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/
孫栄硯（D3、JSPS DC1）：
プラズマ援用研磨法の開発（第24報）
－CF4プラズマ照射前後におけるAlN基板とダイヤモンド砥粒との吸着力の変化－
陶通（M2）：
プラズマ援用研磨法の開発（第25報）
－RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価－
谷海洋（M2）：
難加工材料に対するスラリーレス超音波援用電気化学機械研磨法の開発（第3報）
－4インチSiCウエハ研磨の検討－
須場健太（M1）：
中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第13報）
－PCVM加工後の表面粗さ悪化要因の究明とその対策－
杉本健太郎（M1）：
プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー加工（第3報）
－研磨レートおよび表面性状の研磨圧力依存性に関する検討－
みなさま発表お疲れ様でした！
