2022.03.25
3月25日～27日にオンライン開催されたCJUMP2022にて、当研究室の4人が研究発表を行いました。
3月25日～27日にオンライン開催されたCJUMP2022にて、当研究室より下記の研究発表を行いました。
http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/
楊旭（特任助教）：
Effects of subsurface damage on material removal rate in slurryless elecrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surface
孫栄硯（D3、JSPS DC1）：
Polishing characteristics of AlN ceramics in plasma-assisted polishing using diamond grinding stone with different abrasive particle sizes
陶通（M2）：
Processing characteristics of quartz crystal in plasma chemical vaporization machining using argon or helium as the carrier gas
谷海洋（M2）：
Relative motion improvement and parameter optimization in slurryless electrochemical mechanical polishing of 4 inch 4H-SiC wafers
皆さん発表お疲れ様でした！
http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/
楊旭（特任助教）：
Effects of subsurface damage on material removal rate in slurryless elecrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surface
孫栄硯（D3、JSPS DC1）：
Polishing characteristics of AlN ceramics in plasma-assisted polishing using diamond grinding stone with different abrasive particle sizes
陶通（M2）：
Processing characteristics of quartz crystal in plasma chemical vaporization machining using argon or helium as the carrier gas
谷海洋（M2）：
Relative motion improvement and parameter optimization in slurryless electrochemical mechanical polishing of 4 inch 4H-SiC wafers
皆さん発表お疲れ様でした！
