2022.12.01
11月28日～12月2日に奈良県コンベンションセンターで開催されたICPE2022にて、当研究室の5人が研究発表を行いました。
11月28日～12月2日に奈良県コンベンションセンターで開催されたThe 19th International Conference on Precision Engineering (ICPE2022)にて、当研究室より下記の研究発表を行いました。
http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/
有馬先生（准教授）：
Formation and Characterization of Nanotrenches along Step Edges of a Flattened Si Surface by Self-assembled Processes in Solutions
孫先生（助教）：
Elucidation of plasma-assisted polishing mechanism through evaluating the adhesion force between diamond abrasive and AlN wafer
陶通（D1）：
Optimization of modification conditions used in plasma assisted polishing for improving the material removal rate of Gallium nitride
須場健太（M2）：
Submicron-scale figure correction of Wolter mirror mandrel with nano-scale surface roughness using plasma chemical vaporization machining
東知樹（M1）：
Detection of photoelectrons from noble metal catalysts at the bottoms of Si grooves after metal-assisted chemical etching
発表お疲れさまでした。
http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/
有馬先生（准教授）：
Formation and Characterization of Nanotrenches along Step Edges of a Flattened Si Surface by Self-assembled Processes in Solutions
孫先生（助教）：
Elucidation of plasma-assisted polishing mechanism through evaluating the adhesion force between diamond abrasive and AlN wafer
陶通（D1）：
Optimization of modification conditions used in plasma assisted polishing for improving the material removal rate of Gallium nitride
須場健太（M2）：
Submicron-scale figure correction of Wolter mirror mandrel with nano-scale surface roughness using plasma chemical vaporization machining
東知樹（M1）：
Detection of photoelectrons from noble metal catalysts at the bottoms of Si grooves after metal-assisted chemical etching
発表お疲れさまでした。
