山口孝太くん（M1）が6月27日(木)に富山国際会議場で開催された日本接着学会 第62回年次大会において「優秀ポスター賞」を受賞しました。

山口孝太, 西野実沙, 稲垣耕司, 森川良忠, 大越正治, 才津良太, 孫栄硯, 山村和也, 大久保雄司
ハバード項を付加した密度汎関数理論に基づく酸化銅表面とフッ素系分子の吸着エネルギーの計算

おめでとうございます！