3月12日～13日に東京都市大学世田谷キャンパスで開催された表面技術協会第151回講演大会にて、当研究室の才津良太（M2）君が下記の研究発表を行いました。

http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/

才津良太（M2）：
プラズマ処理したフッ素樹脂に対するCuスパッタリング膜の接着メカニズムの解明

発表お疲れ様でした！