2024年度オートレース補助事業『プラズマを援用したダイヤモンド基板の高能率研磨プロセスの開発』の報告書を掲載しました。

　本事業では、当研究室が独自に開発した高能率・無歪研磨法であるプラズマ援用研磨法（PAP：Plasma-assisted Polishing）をダイヤモンド基板の平坦化と平滑化処理に適用し、異種材料との常温接合を実現することを目的として研究開発を行いました。開発の結果、２インチサイズの多結晶ダイヤモンド(PCD)基板の粒界段差フリー研磨を実現し、本基板に対して拡張表面活性化接合によりGaN基板を常温接合することに成功しました。

研究報告書