6月30日〜7月1日に仙台国際センターで開催された日本接着学会 第63回年次大会にて、当研究室の山口孝太君（M2）が下記の研究発表を行いました。

http://www-nms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/

山口孝太（M2）：
量子計算を用いた酸化クロム表面に対するフッ素系分子の吸着エネルギーの計算

発表お疲れ様でした！