9月15日~17日に東北大学川内キャンパスで開催された2026年度精密工学会秋季大会学術講演会にて、当研究室より下記の研究発表を行いました。

https://nms-prec.eng.osaka-u.ac.jp/results/

大西雄也（D2）:
電気化学機械研磨によるGaN基板の高能率スラリーレス加工法の開発（第２報）－GaN(0001)面における陽極酸化反応過程の評価－

居松正悟（M1）:
Si系研磨プレートを用いたダイヤモンドのプラズマ援用研磨における研磨特性の評価

森下浩彰（M1）:
プラズマ援用研磨を用いたダイヤモンド基板の高能率平滑化に関する研究－Si研磨プレートの酸化速度とダイヤモンドの材料除去率の相関－

筒井正彦（M1）:
電気化学機械研磨におけるSiCの高能率スラリーレス加工法の開発（第13報）－同一条件下における（0001）面および（000–1）面の酸化膜質の差異－

皆様、発表お疲れさまでした！